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铋酸钡系负温度系数半导体陶瓷及其制备方法 发明授权

2022-12-25 2070 218K 0

专利信息

申请日期 2025-06-28 申请号 CN200910114388.7
公开(公告)号 CN101659545B 公开(公告)日 2012-07-18
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 桂林电子科技大学
简介 本发明涉及热敏电阻材料,具体涉及以BaBiO3为基础相的陶瓷材料及其制备方法。所述铋酸钡系负温度系数半导体陶瓷,其化学通式为(Ba1-xAx)(SbyBi1-y)O3,式中A为稀土金属元素,0<x≤0.01,0<y<0.1。该半导体陶瓷可采用传统电子陶瓷制备工艺制备,具体包括配料,焙烧,造粒,压型,烧成和电极制备6个步骤。与现有技术相比,本发明铋酸钡系负温度系数半导体陶瓷制备工艺简单,导电性能良好,室温电阻率和温度系数可调,克服了现有负温度系数热敏电阻陶瓷材料室温电阻率大的不足,可实现室温电阻率为35Ω·cm,而温度系数B值为3147K的以BaBiO3为基础相的负温度系数热敏电阻半导体陶瓷。


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