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SiC单晶的制造方法 发明申请

2023-03-26 2000 657K 0

专利信息

申请日期 2025-06-27 申请号 CN201110463123.5
公开(公告)号 CN102534797A 公开(公告)日 2012-07-04
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 信越化学工业株式会社
简介 本发明涉及一种SiC单晶的制造方法。该方法包括:在石墨坩锅内的底部放置SiC籽晶;使包含Si、C和R(R是选自包含Sc和Y的稀土元素中的至少一种)或X(X是选自Al、Ge、Sn和不包括Sc和Y的过渡金属中的至少一种)的溶液存在于石墨坩埚中;将溶液过冷以使得SiC单晶在籽晶上生长;从石墨坩锅上方将粉末状或者粒状Si和/或SiC原料加入到溶液中,同时保持SiC单晶的生长。


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