| 申请日期 | 2025-07-07 | 申请号 | HK11109989.1 |
| 公开（公告）号 | HK1155847A | 公开（公告）日 | 2012-05-25 |
| 公开国别 | HK | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 株式会社神户制钢所 | ||
| 简介 | [CN102084421B]本发明提供反射膜表面高精度再现形成于基板上的凹槽或凹点等，实现光信息记录介质的噪声的减小，并且具有高的反射率的Al基合金反射膜，以及对形成这样的反射膜有用的溅射靶材。本发明的光信息记录介质用反射膜用于光信息记录介质，实质上由含有2.0～15.0原子％的稀土类元素的Al基合金形成，反射膜的厚度方向的微晶尺寸为30nm以下。 | ||
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