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The etching chamber component filled polymer composition 发明申请

2023-01-27 3660 456K 0

专利信息

申请日期 2025-06-27 申请号 JP2011540842
公开(公告)号 JP2012511834A 公开(公告)日 2012-05-24
公开国别 JP 申请人省市代码 全国
申请人 APPLIED MATERIALS INCORPORATED
简介 A filled polymer composition having improved plasma resistance is disclosed. The composition includes a particle filler dispersed in a polymer matrix. The particle filler can be Nb2O5, YF3, AlN, SiC or Si3N4 and rare earth oxides. In an embodiment, the composition is utilized as a bonding adhesive for electrostatic chuck, bonding adhesive for shower head, bonding adhesive for liner, sealing material, O-ring, or plastic component.


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