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一种掺杂稀土离子的钨酸铅大单晶的制备方法 发明申请

2023-08-31 3050 394K 0

专利信息

申请日期 2025-06-24 申请号 CN201110397518.X
公开(公告)号 CN102443853A 公开(公告)日 2012-05-09
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 中国科学院上海硅酸盐研究所
简介 本发明公开了一种掺杂稀土离子的钨酸铅大单晶的制备方法,是采用坩埚下降法工艺,其特征在于:所述的籽晶是径向尺寸为10~25mm的圆形或方形的钨酸铅晶体;所述的坩埚包括呈圆锥状籽晶端,籽晶端的放肩角为30~45度;晶体生长时,需控制放肩阶段最大下降速率为0.4~0.8mm/h,晶体生长阶段最大下降速率为0.8~1.2mm/h。本发明用坩埚下降法工艺,实现了采用较小直径的籽晶生长得到直径达50mm的掺杂稀土离子的PWO大单晶,且制得的大单晶在机械加工中不易开裂,可满足发光材料的应用要求;而且,本发明的制备工艺简单,生长后的晶体无需复杂的退火后处理,即可满足机械加工要求,具有工业化应用价值。


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