| 申请日期 | 2025-07-31 | 申请号 | CN200810096364.9 |
| 公开（公告）号 | CN101274821B | 公开（公告）日 | 2012-03-21 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 宇部材料工业株式会社 | ||
| 简介 | 本发明提供了一种用涂布法制造可见光透过性高的、而且耐溅射性高的氧化镁薄膜的技术。本发明如下制造膜厚为100～1000nm范围、白色光透过率在95％以上的氧化镁薄膜：在基板上涂布、并在干燥后烧成氧化镁微粒子分散液，所述氧化镁微粒子分散液分散有氧化镁作为利用动态光散射法测定的D50为5～40nm范围的微粒子，以下述含金属化合物所含金属的总摩尔含量相对于100摩尔的氧化镁为1.5～3.5摩尔范围的比例，含有属于碱土金属、稀土金属、长周期周期表中12族、13族、14族或15族金属的氧化物以外的含金属化合物，并将碳原子数3～5的一元醇作为分散介质。 | ||
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