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BRAZING MATERIAL, ELECTRON TUBES, MAGNETRON AND METHOD FOR BRAZING 发明授权

2023-08-07 4720 451K 0

专利信息

申请日期 2025-07-28 申请号 KR1020097008390
公开(公告)号 KR101091389B1 公开(公告)日 2011-12-01
公开国别 KR 申请人省市代码 全国
申请人 Unacceptable Toshiba Mate Rials sikigayisya; TOSHIBA HOKUTO ELECTRONICS CORP
简介 To obtain a brazing material where the major components thereof is Mo and Ru of the rare metal is not used. The brazing material comprised of (1 to 3.5) wt% of C - (1 to 3.5) wt% of B - remainder of Mo.


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