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R-T-B系烧结磁体的制造方法和扩散源 发明申请

2023-09-08 2410 652K 0

专利信息

申请日期 2026-03-08 申请号 CN201811140200.1
公开(公告)号 CN109585153A 公开(公告)日 2019-04-05
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 日立金属株式会社
简介 一种R-T-B系烧结磁体的制造方法,其包括:准备R1-T-B系烧结磁体原材料(R1为稀土元素,T为Fe或Fe和Co)的工序;准备含有占整体的40质量%以上的必须包含Dy和Tb中的至少一种的稀土元素R2的合金粉末的工序;以比合金粉末的熔点低250℃的温度以上、熔点以下的温度对合金粉末进行热处理,由合金粉末得到扩散源的工序;和将R1-T-B系烧结磁体原材料和扩散源配置在处理容器内,将R1-T-B系烧结磁体原材料和扩散源加热到R1-T-B系烧结磁体原材料的烧结温度以下的温度,使扩散源所含的Dy和Tb中的至少一种从R1-T-B系烧结磁体原材料的表面扩散到内部的扩散工序,合金粉末是通过雾化法制得的粉末。


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