用於制程环上之基於稀土金属氧化物的薄膜涂层之离子辅助沉积发明授权

2023-03-27 2320 4997K 0

申请日期	2025-06-27	申请号	TW107101367
公开（公告）号	TWI654701B	公开（公告）日	2019-03-21
公开国别	TW	申请人省市代码	全国
申请人	美商应用材料股份有限公司
简介	一种制造物品的方法包括为蚀刻反应器提供一环随後进行离子辅助沉积(IAD)以在该环的至少一个表面上沉积保护层，其中该保护层为抗电浆稀土金属氧化物膜，该膜具有小於300微米的厚度及小於6微英寸的平均表面粗糙度

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