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荧光强度反转型耐磨损耐涂污荧光防伪方法 发明授权

2023-01-31 1060 874K 0

专利信息

申请日期 2025-06-25 申请号 CN200710064724.2
公开(公告)号 CN101271068B 公开(公告)日 2010-12-08
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 北京师范大学
简介 本发明提供一种双波长激发的荧光强度反转型耐磨损耐涂污荧光防伪方法,其采用Yb3+X型稀土纳米材料作为荧光防伪材料,其中X为另一种稀土元素离子,利用这种稀土纳米材料的荧光强度反转和荧光强度反转的动态范围在磨损或涂污后基本不变的特性进行荧光防伪,所述方法包括以下步骤:(1)选用激发光EX1激发X离子,使其发出较强的短波长荧光EM1和较弱的长波长荧光EM2;(2)检测激发光EX1激发下的短波长荧光与长波长荧光的荧光强度比α;(3)选用激发光EX2激发X离子,使其发出较强的长波长荧光EM2和较弱的短波长荧光EM1;(4)检测激发光EX2激发下的长波长荧光与短波长荧光的荧光强度反转比γ;和(5)计算荧光强度反转的动态范围∑=γ×α。


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