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深紫外半导体发光装置 发明申请

2023-02-20 1130 505K 0

专利信息

申请日期 2025-07-01 申请号 CN200880114647.X
公开(公告)号 CN101842869A 公开(公告)日 2010-09-22
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 国立大学法人神户大学
简介 目前被作为紫外光源使用的水银灯无法小型化,而且发光二极管的对应波长也只在365nm以下很难实现实用化的情况下,本发明提供了一种大面积高亮度的深紫外发光装置。该深紫外发光装置,具有阳极基板,其以氮化铝作为主要材料,添加了钆(Gd)等稀土金属离子的紫外荧光体薄膜;阴极基板,具有场致电子发射材料薄膜;将上述阳极基板和阴极基板相向设置;还具有垫片,可以让基板之间的空隙保持在真空状态;以及包括在阳极基板和阴极基板之间的外加电场电压回路构成。将阳极基板和阴极基板之间的空隙作为真空通道区域,在基板之间外加电场,将上述场致电子发射薄膜材料发射出的电子束注入上述紫外荧光体薄膜,使之发光的深紫外发光装置。


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