| 申请日期 | 2026-04-25 | 申请号 | CN201811516954.2 |
| 公开（公告）号 | CN109459807A | 公开（公告）日 | 2019-03-12 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 成都精密光学工程研究中心 | ||
| 简介 | 本发明公开了一种红外低折射率光学薄膜及其制备方法，属于光学薄膜领域。所述红外低折射率光学薄膜通过有效的制备方法并采用稀土族元素氟化物YF3制备得到，通过该方法制备得到的红外低折射率光学薄膜具有无定形结构的特征，较之单晶、多晶结构的薄膜具有更低的散射损耗；折射率系数在1.5μm为1.482与现有的中红外激光低折射率光学薄膜的折射率系数相当，具备同等的设计自由度；但是其表面粗糙度为1.477nm和聚集密度0.904都优于现有的中红外光学薄膜的表面粗糙度2nm左右和聚集密度0.8左右，降低了薄膜的损耗，提高了薄膜致密性；其在水吸收附近的2.9μm和6.1μm的透过率为60％和70％相比于常规工艺制备的中红外光学薄膜透过率高20％左右，改善了薄膜的吸潮情况。 | ||
|
您还没有登录，请登录后查看下载地址
|
客服热线：
手机版
二维码
