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一种掺杂稀土元素的化合物半导体材料及其生长方法 发明申请

2023-03-26 4570 812K 0

专利信息

申请日期 2025-06-27 申请号 CN200910247541.3
公开(公告)号 CN101775658A 公开(公告)日 2010-07-14
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 苏州纳维科技有限公司
简介 一种掺杂稀土元素的化合物半导体材料,所述半导体材料是由III族元素和V族元素构成的晶体材料,并掺杂有稀土元素,所述晶体材料中进一步包括替位掺杂物,所述替位掺杂物为一种III族元素或多种III族元素的组合,且所含有的III族元素的原子序数小于构成晶体材料的III族元素的原子序数,所述替位掺杂物在晶体中替代原有的III族元素形成替位缺陷。本发明还提供了上述材料的制备方法。本发明的优点在于,通过在材料中掺杂原子序数较小的元素,形成替位缺陷,以改善半导体材料由于掺杂稀土元素而引起的晶格畸变,从而提高材料的发光效率。


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