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超支化聚胺酯/镧/蒙脱土三元纳米复合材料及其制备 发明授权

2023-09-27 2400 622K 0

专利信息

申请日期 2025-06-26 申请号 CN200710017703.5
公开(公告)号 CN101041742B 公开(公告)日 2010-05-19
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 西北师范大学
简介 本发明提供了一种超支化聚胺酯/镧/蒙脱土三元纳米复合材料的制备方法,该方法以超支化聚胺酯(HPAE)树形分子为有机相,包覆稀土粒子镧(La),并与蒙脱土(MMT)发生插层复合而得。本发明的方法制备的超支化聚胺酯/镧/蒙脱土三元纳米复合材料,经TEM、TGA、DSC、UV-vis和FT-IR,测试结果表明,以超支化分子保护的稀土粒子La插入到蒙脱土层间,并均匀地以纳米级分布;其稳定性好、微观分布均匀、光学活性高,可应用于制备稀土永磁材料和荧光材料。


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