| 申请日期 | 2025-06-25 | 申请号 | CN200910170392.5 |
| 公开（公告）号 | CN101660127A | 公开（公告）日 | 2010-03-03 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 株式会社爱发科 | ||
| 简介 | 本发明涉及成膜方法和成膜装置以及永磁铁和永磁铁的制造方法，提供一种真空 处理装置，具有：处理室，其可真空排气；加热手段，其加热所述处理室内；保持手 段，其在所述处理室内分别保持散块体金属蒸发材料和被处理物；在所述处理室的减 压状态下使所述加热手段动作，将处理室加热到至少使金属蒸发材料蒸发的温度在处 理室内形成金属蒸汽气氛，所述蒸汽气氛中的金属原子附着到被加热的被处理物表 面。所述金属蒸发材料至少包含Dy、Tb中的一种，所述被处理物为具有规定形状的 铁-硼-稀土系烧结磁铁，可控制该烧结磁铁的加热温度使所述烧结磁铁表面附着的金 属原子扩散到其晶界中。保持所述烧结磁铁及金属蒸发材料的保持部件由不与Dy或 Tb反应的材料构成。 | ||
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