| 申请日期 | 2025-06-26 | 申请号 | CN200910183833.5 |
| 公开（公告）号 | CN101623843A | 公开（公告）日 | 2010-01-13 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 昆山光爱电子材料有限公司 | ||
| 简介 | 本发明公开了一种低通光学滤波器超薄晶片的制作方法，其特征在于：在 利用抛光机对晶片进行抛光时，使用氟碳表面活性剂作为稀土抛光粉添加剂。 在利用抛光机对晶片进行抛光前，还包括：对毛胚晶片的平行度和光洁度进行 检查；切割角、旋转角的判定；晶片的研磨。在利用抛光机对晶片进行抛光后， 还包括：清洗晶片；对晶片进行波面检查；对晶片进行脉理检测；对晶片进行 超净面精检查。本方法制造的滤波器晶片厚度与口径之比≥1∶15，面积为 39.95mm×33mm，厚度为0.165mm～0.215mm，光圈N≈5；加氟添加液抛光工艺， 提高了晶片的面精度，增加光透过率，减少光圈(N≤5)，提高晶体片粗糙度≤ 30A，表面透过条纹≤5本、反射条纹≤8本、透过率增加20％、面精度＝10/5。 | ||
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