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发光二极管及其生长方法 发明申请

2023-09-29 3710 645K 0

专利信息

申请日期 2025-06-25 申请号 CN200910055731.5
公开(公告)号 CN101621103A 公开(公告)日 2010-01-06
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 苏州纳维科技有限公司
简介 一种发光二极管,包括N型半导体层、P型半导体层和夹在两者之间的发 光层,所述发光二极管还包括光激发层,所述光激发层由掺杂有稀土元素的 III-V族化合物半导体材料构成。本发明进一步提供了一种生长上述发光二极 管的方法。本发明的优点在于,采用掺杂有稀土元素的半导体材料作为光激发 层代替现有的荧光粉,并且光激发层的厚度大于10微米,以保证激发光的强 度足以匹配发光层辐射光的强度,避免混合后的白光发生色偏。光激发层在长 时间工作的情况下也不会出现衰减现象。


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