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热磁复制型磁记录方法和磁盘装置 发明授权

2023-02-08 5000 1793K 0

专利信息

申请日期 2026-03-08 申请号 CN200410063560.8
公开(公告)号 CN100561579C 公开(公告)日 2009-11-18
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 株式会社日立制作所
简介 本发明涉及热磁复制型磁记录方法和磁盘装置,目的是提供实 现超高记录密度、在耐热退磁性方面优越的热磁复制型的垂直磁记录 介质。对于在使用低噪声Co类合金强磁体的第一记录层和使用在动 作环境温度以下具有补偿点的铁氧体磁体(例如稀土—过渡金属化合 物)的第二记录层之间具有中间层的记录介质,首先施加磁场在第一 记录层形成磁化图形,接着通过用加热构件升温,在第二记录层复制 磁化图形。在环境温度下,第二记录层为高矫顽力,通过适当设定记 录磁场可仅在第一记录层形成磁化图形。此外,加热时,由于第二记 录层为低矫顽力,磁化图形从第一记录层复制到第二记录层。


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