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一种高致密(SmxBa1-x)B6多晶块体阴极及其快速制备方法 发明申请

2023-04-25 2330 520K 0

专利信息

申请日期 2025-06-28 申请号 CN200910086811.7
公开(公告)号 CN101575211A 公开(公告)日 2009-11-11
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 北京工业大学
简介 一种(SmxBa1-x)B6多晶块体阴极及其制备方法属于稀土硼化物材料技术 领域。本发明所提供的阴极材料的化学组成为(SmxBa1-x)B6,0.2≤x≤1。 本发明首先采用直流电弧蒸发法分别制备SmH2和BaH2纳米粉末,再与原料 B粉末按配比混均,采用放电等离子反应液相烧结,压力为40~70MPa,升 温速率为90~150℃/min,烧结温度为1300~1500℃,保温5~15min,制 得单相、致密的(SmxBa1-x)B6。本发明方法烧结温度低、时间短,工艺简单。


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