申请日期 | 2025-07-10 | 申请号 | CN200480005433.0 |
公开(公告)号 | CN100554530C | 公开(公告)日 | 2009-10-28 |
公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
申请人 | TDK株式会社 | ||
简介 | 提供耐蚀性优良的稀土类磁铁的制造方法及用于该方法的电镀 液。在含稀土类元素的磁铁基体上,依次层叠含镍的第1保护膜和 含镍及硫的第2保护膜。第1保护膜使用包含镍源、导电性盐、pH 稳定剂、镍源的镍原子单位浓度为0.3mol/l~0.7mol/l、电导率在 80mS/cm以上的第1电镀液进行电镀而形成。因而,可以抑制稀土富 集相的洗脱,减少针孔的生成,并且因此提高耐蚀性。 |
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