| 申请日期 | 2025-07-02 | 申请号 | CN200610154019.7 |
| 公开（公告）号 | CN100547699C | 公开（公告）日 | 2009-10-07 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 株式会社日立制作所 | ||
| 简介 | 以稀土类磁铁的磁力特性提高和涡流损的降低化为课题。为了解决所 述课题，而在稀土类磁铁用磁粉表面形成高阻抗涂膜，其具有低于μm～ nm的膜厚，由高阻抗涂膜形成处理液形成。此外，磁铁由磁粉形成，磁 粉在表面具有膜，该膜含有Mg、La、Ce、Pr或Nd氟化物及Ca、Sr、Ba、 Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb或Lu的氟化物。 | ||
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