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萤光膜、萤光膜之成膜方法、介电体多层膜、光学元件、光学系统、摄影单元、光学特性测量装置、光学特性测定方法、曝光装置、曝光方法、及元件制造方法 发明申请

2022-12-27 4050 3336K 0

专利信息

申请日期 2025-06-27 申请号 TW098107531
公开(公告)号 TW200940684A 公开(公告)日 2009-10-01
公开国别 TW 申请人省市代码 全国
申请人 尼康股份有限公司
简介 本发明提供一种萤光膜、及具有该萤光膜之介电体多层膜、利用该萤光膜之光学元件、摄影装置、光学特性测量装置、曝光装置、曝光方法及元件制造方法,上述萤光膜,其特徵在於,含有由可使紫外线穿透之氟化物所构成的母材、及掺杂於该母材中之活化材,上述活化材含有过渡元素或者稀土类元素,且藉由於上述母材中照射上述紫外线而发出萤光。


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