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多层膜结构的薄膜气体吸收元件及其制造和使用方法 发明授权

2023-09-29 1380 706K 0

专利信息

申请日期 2025-06-24 申请号 CN200410090635.1
公开(公告)号 CN100544950C 公开(公告)日 2009-09-30
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 北京有色金属研究总院
简介 一种多层膜结构的薄膜气体吸收元件及其制造方法和使用方法。该气体吸收 元件,是在陶瓷支撑体上沉积一层气体吸收层,在气体吸收层上覆盖一层催化层, 陶瓷支撑体内部含有加热层,气体吸收层的组成包括有Ti、Zr、V、La、Y、Ce、 Nd、Nb、Hf和Fe中的至少两种材料,催化层为催化金属的合金薄膜,其含有 Pd,和Ag、Ni、Cr、Cu和Al中的至少一种,以及La、Y、Ce和Nb中的一种 稀土元素或它们的混合物,其中,La、Y可以是单质或是其氧化物。陶瓷支撑体 为烧结后陶瓷多孔支撑体,其比表面积大于1m2/g。催化层的上面设有多孔气体 透过网,在该吸收元件的外周设有封装外壳。采用烧结方法制备陶瓷多孔支撑体; 采用共蒸发方法沉积形成气体吸收层薄膜;采用共溅射沉积法使气体吸收层薄膜 上覆盖催化层合金薄膜。该气体吸收元件能够在低温激活,是性能稳定的微型吸 气剂元件。


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