申请日期 | 2025-07-18 | 申请号 | CN200610159739.2 |
公开(公告)号 | CN100522414C | 公开(公告)日 | 2009-08-05 |
公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
申请人 | 王国利 | ||
简介 | 本发明公开了一种青铜器薄壁镂空长流程铸造工艺,主要在壳模制造和 青铜合金配方上进行了改进,在壳模内层涂料里加入稀土元素镥,在青铜合 金里加入了稀土元素钇。该工艺提高了壳模内壁的光滑度和保温性能,降低 了青铜合金熔液的粘稠度,在浇注过程中容易充型,从而提高青铜合金熔液 的充腔速度,能够铸造出花纹细腻、没有冷隔和气孔的薄壁镂空长流程青铜 器工艺品。 |
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