| 申请日期 | 2025-07-18 | 申请号 | CN201811536046.X |
| 公开（公告）号 | CN109355613A | 公开（公告）日 | 2019-02-19 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 武汉理工大学 | ||
| 简介 | 本发明公开了一种高温高发射率氧化铪基红外辐射涂层，它以HfO2粉和稀土氧化物粉为主要原料，向其中加入水和粘结剂配制均匀浆料，然后依次经喷雾造粒、高温焙烧、热喷涂而成。本发明首次提出将HfO2粉与Gd2O3或Sm2O3等稀土氧化物进行复配，并结合热喷涂工艺，所得高红外辐射涂层常温下全波段法向积分发射率可达0.85以上，且随着高温的提升有缓慢上升的趋势，可兼具良好的耐高温性能和全波段红外辐射性能；且涉及的制备工艺简单、合成时间短、能耗低，具有重要的研究和推广价值。 | ||
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