| 申请日期 | 2025-06-24 | 申请号 | CN200710304553.6 |
| 公开（公告）号 | CN101469405A | 公开（公告）日 | 2009-07-01 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 北京有色金属研究总院 | ||
| 简介 | 一种带加长型筒状阳极的筒状靶溅射设备，包括有：水箱，在该水箱的环壁 内设有水夹层；筒状靶材，该筒状靶材的外环壁与水箱的内环壁紧密接触；加长 型筒状阳极，其底壁设有若干个溅射气体进气孔，并配有阳极盖，在阳极盖上接 有进气管路；数块磁体，该数块磁体围绕水箱的环壁的一周。加长筒型阳极采用 无氧铜材料制成，水箱上的绝缘圈、阳极盖均为聚四氟乙烯材料绝缘制成。在制 备复杂氧化物薄膜、特别是高温YBCO等稀土钡铜氧薄膜时，采用带加长型筒 状阳极的筒状靶溅射设备可显著改善负氧离子轰击以及溅射物质堆积掉渣等负 影响，有显著的改善薄膜生长质量、提高性能的作用。 | ||
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