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一种提高发光效率的稀土掺杂二氧化硅薄膜制备方法 发明申请

2023-06-26 1140 443K 0

专利信息

申请日期 2025-06-27 申请号 CN200710134577.1
公开(公告)号 CN101162753A 公开(公告)日 2008-04-16
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 南京大学
简介 本发明涉及一种提高发光效率的稀土掺杂二氧化硅薄膜制备方法,属于光电子器件材料技术领域。该方法的步骤为配制前驱体溶胶溶液、在衬底上形成湿膜、热分解湿膜、在衬底上制备薄膜、高温退火。实验证明,采用本发明的方法可以使稀土离子的发光产生数量级的增强,可以与半导体工业相兼容,具有操作方便、快捷、成本低廉、制备条件温和、工艺重复性好、效果明显等优点,完全可以应用于未来的硅基光电子领域。


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