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成膜方法和成膜装置以及永磁铁和永磁铁的制造方法 发明申请

2023-10-27 3960 1474K 0

专利信息

申请日期 2025-06-27 申请号 CN200680008726.3
公开(公告)号 CN101163814A 公开(公告)日 2008-04-16
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 株式会社爱发科
简介 在有效利用作为成膜材料的Dy、Tb的同时,通过在具有规定形状的铁-硼-稀土系的磁铁表面高速成膜来提高生产率,能以低成本制造出永磁铁。通过在具有规定形状的铁-硼-稀土系磁铁表面上形成Dy膜的成膜工序以及通过在规定温度下实施热处理,使在表面上成膜的Dy扩散到磁铁的晶界相的扩散工序制造永磁铁。在上述情况下,成膜工序由加热实施该成膜工序的处理室,使预先配置在该处理室内的Dy蒸发,在处理室内形成具有规定的蒸汽压的Dy蒸汽气氛的第1工序,以及将保持在低于处理室内的温度上的磁铁送入处理室,在该磁铁达到规定温度之前,利用处理室内和磁铁之间的温差,使Dy选择性地附着沉积到磁铁表面的第2工序构成。


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