| 申请日期 | 2025-07-08 | 申请号 | CN200680006735.9 |
| 公开（公告）号 | CN101133173A | 公开（公告）日 | 2008-02-27 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 西门子公司 | ||
| 简介 | 已知高铬含量的保护层和附加地硅构成脆化相，该脆化相在使用期间受碳的影响进一步变脆。按本发明的保护层的成分为27％至31％镍；23％至29％铬；7％至11％铝；0.5％至0.7％钇和/或包括钪和稀土元素的元素组中的至少一种等效金属；任选0.6％至0.8％硅；任选0.5％至0.7％锆以及其余为钴。 | ||
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