具有耐等离子体腐蚀性的保护层的衬底支架发明申请

2023-05-17 4650 719K 0

申请日期	2025-09-19	申请号	CN200710143809.X
公开（公告）号	CN101118865A	公开（公告）日	2008-02-06
公开国别	CN	申请人省市代码	全国
申请人	应用材料股份有限公司
简介	本发明的实施方式提供了一种具有增强耐等离子体腐蚀性的保护层的衬底支撑组件。在一个实施方式中，一种衬底支撑组件包括具有上衬底支撑表面的静电卡盘、和设置在静电卡盘上的保护层，其中保护层由包含稀土金属的陶瓷材料制成。

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