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真空处理装置 发明授权

2023-01-24 3510 1296K 0

专利信息

申请日期 2025-06-29 申请号 TW090124081
公开(公告)号 TWI290589B 公开(公告)日 2007-12-01
公开国别 TW 申请人省市代码 全国
申请人 东京威力科创股份有限公司
简介 装置的维修容易,同时使维修周期延长,可以提昇效能。处理室(2)与预备真空室(3),系藉形成於壁面之搬送口(20)连接。在搬送口(20)的内壁,设置由多数之构件所形成,可以自由安装卸下之闸衬垫(100)。搬送口内壁之维修时,仅取下闸衬垫(100)进行洗净、替换等即可,所以较容易。在覆盖闸衬垫(100)的表面与闸阀(4)的搬送口(20)之部分的表面,被覆由耐等离子侵蚀性较高之稀土类氧化熔融喷镀覆膜所形成之绝缘覆膜(200、300)。为此,在此等之表面很难因等离子而发生损伤,可以减低金属污染与发尘。


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