| 申请日期 | 2025-06-25 | 申请号 | CN201811240415.0 |
| 公开（公告）号 | CN109306414A | 公开（公告）日 | 2019-02-05 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 吉晟光电(深圳)有限公司 | ||
| 简介 | 本发明提供银合金靶材、薄膜及其制备方法，该银合金靶材构成为AgxInyMzQn, 其中铟的比例为8％≤y≤40％(原子比)，M为锡、金、铂、钯、铌、铑、钌中的至少一种元素，0≤z≤8％(原子比)，Q为稀土元素中的至少一种元素，0≤n≤3％(原子比), 且银的含量x≥60％(原子比)。该银合金靶材可由磁控溅射镀，离子溅射镀、真空蒸镀或电子束蒸发制得具有优良耐热性、附着力、导电性、耐腐蚀性及抗硫化性的银合金薄膜，适用于反射电极膜、液晶显示器、光记录介质、有机发光二极管及电致变色等领域。 | ||
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