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一种顶出光电极及其制备方法 发明授权

2023-11-16 3840 307K 0

专利信息

申请日期 2026-04-27 申请号 CN200410056832.1
公开(公告)号 CN100399865C 公开(公告)日 2008-07-02
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 北京大学
简介 本发明公开了一种顶出光电极及其制备方法。本发明所提供的顶出光电极,包括衬底和位于衬底上的有机发光层,所述有机发光层上设有厚度为5—40nm的稀土元素层,在所述稀土元素层上设有厚度为10—15nm的Au层。本发明用低功稀土/Au复合层或CsF/低功稀土/Au复合层作为顶出光电极的上电极材料,可以兼顾透光率、稳定性和低成本等要素。与采用Al/Ag或Al/Au作顶电极的器件相比,本发明电极发光效率提高6—8倍,而外层的Au膜导致的光吸收和光反射都较Ag膜小,且不会被氧化,从而较好保证了器件的电稳定性和发光稳定性,同时又有较好的防止水汽透入有机层的作用。本发明的顶出光电极在无机薄膜和半导体发光,以及光电器件和光探测器等方面有广阔的应用前景。


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