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Method of forming a rare-earth dielectric layer 发明授权

2023-11-30 1760 2041K 0

专利信息

申请日期 2025-06-25 申请号 US11254031
公开(公告)号 US7384481B2 公开(公告)日 2008-06-10
公开国别 US 申请人省市代码 全国
申请人 Petar Atanackovic
简介 Methods for forming compositions comprising a single-phase rare-earth dielectric disposed on a substrate are disclosed. In some embodiments, the method forms a semiconductor-on-insulator structure. Compositions and structures that are formed via the method provide the basis for forming high-performance devices and circuits.


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