| 申请日期 | 2025-06-26 | 申请号 | CN01820477.5 |
| 公开（公告）号 | CN100386467C | 公开（公告）日 | 2008-05-07 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | ||
| 简介 | 在用氧化铝、稀土族氧化物、聚酰亚胺或聚苯并咪唑中任一种喷镀膜覆盖基材表面的等离子体处理容器内部部件的、随着在等离子体中使用而劣化的喷镀膜上，再喷镀与上述喷镀膜同样的材料。由此，能够使因在等离子体中的使用而表面产生劣化的等离子体处理容器再生得如同新品一样。 | ||
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