| 申请日期 | 2025-08-25 | 申请号 | CN200720191122.9 |
| 公开（公告）号 | CN201154986Y | 公开（公告）日 | 2008-11-26 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 北京有色金属研究总院 | ||
| 简介 | 一种加长型筒状阳极，该加长型筒状阳极为筒状，其底壁设有若干个溅射气体进气孔，其顶部为敞口，该敞口的周边缘向外凸出形成支撑边，该敞口并配有阳极盖，在阳极盖上接有进气管路。加长型筒状阳极的环壁在沉积薄膜的过程中均起到了与已有的平面阳极同样的作用，极大地增加了阳极面积，提高了溅射过程中的正效果。采用本实用新型的加长型筒状阳极的筒状靶溅射设备，在制备复杂氧化物薄膜、特别是高温YBCO等稀土钡铜氧薄膜时，可显著改善负氧离子轰击以及溅射物质堆积掉渣等负影响，有显著的改善薄膜生长质量、提高性能的作用。相比于普通采用小平面阳极的溅射设备，在同样条件下制备薄膜的性能更好、工艺窗口更宽、薄膜表面形貌以及均匀性均优于传统溅射设备，体现了本实用新型的突出有益效果。 | ||
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