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一种Eu离子掺杂卤氧化铋半导体光学防伪材料 发明申请

2023-05-17 4410 486K 0

专利信息

申请日期 2025-09-18 申请号 CN201810975101.9
公开(公告)号 CN109251747A 公开(公告)日 2019-01-22
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 昆明理工大学
简介 本发明涉及一种Eu离子掺杂卤氧化铋半导体光学防伪材料,属于光学防伪材料技术领域。本发明光学防伪材料的化学通式为Bi3‑xEuxO4M;其中x=0.001~0.3,M为元素F、Cl、Br的一种或多种。本发明提供的稀土Eu离子掺杂的卤氧化铋半导材料中的Eu3+发光特征对激发光波长、强度、温度具有超敏感的响应特性,且物理化学性质稳定,制备方法简单、原材料成本低;该材料有望作为高敏感光学防伪材料、紫外探测器,温度传感器器,光伏铁电材料,光机械材料传感材料到应用。


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