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用于制造非挥发性电阻式随机存储器的薄膜材料及方法 发明申请

2023-04-07 2610 470K 0

专利信息

申请日期 2025-08-15 申请号 CN200810036885.5
公开(公告)号 CN101281951A 公开(公告)日 2008-10-08
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 中国科学院上海硅酸盐研究所
简介 本发明涉及用于制造非挥发性电阻式随机存储器的薄膜材料及方法,其特征在于所述的薄膜材料以单晶硅为衬底组成的材料,通式为Re1-xCexMnO3,式中0<x<1,Re为稀土离子中的任一种;材料的高低电阻态之间的电阻值相差5~6数量级。本发明提供了相应的薄膜材料制作方法,并对薄膜材料的EPIR效应进行了测定。


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