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陶瓷接合体、基片支承构造体及基片处理装置 发明授权

2023-02-16 3880 1881K 0

专利信息

申请日期 2025-07-18 申请号 CN02801227.5
公开(公告)号 CN100486933C 公开(公告)日 2009-05-13
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 住友电气工业株式会社
简介 提供一种基片支承构造体,所述的基片支承构造体具有优良的耐腐蚀 性及气密性、同时有优良的尺寸精度,在被加有机械的或热的应力时有足 够的耐久性。本发明基片支承构造体的支承体(1)包括:支承基片用的陶瓷 基体(2),其具有电路(4、5、6);与所述陶瓷基体(2)的所述电路(4、5、 6)连接的供电用导电构件(13a~13d);接合在陶瓷基体(2)上并且包围所述 供电用导电构件(13a~13d)的保护筒体(7);位于陶瓷基体(2)与保护筒体 (7)之间并把陶瓷基体(2)和保护筒体(7)接合的接合层(8),其氦漏气率小 于1.0×10-8Pa·m3/S。接合层(8)含有稀土类氧化物质量2%以上质量70% 以下、氧化铝质量10%以上质量78%以下、氮化铝质量2%以上质量50% 以下。该接合层(8)包含通过使所述氮化铝溶解再析出现象析出形成的氮 化铝粒子,在接合层(8)的上述三种成分中稀土类氧化物或氧化铝的比例最 多。


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