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一种底层垫掩模荫罩对准喷涂的方法 发明申请

2023-08-13 3710 542K 0

专利信息

申请日期 2025-09-11 申请号 CN200810234808.0
公开(公告)号 CN101422773A 公开(公告)日 2009-05-06
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 南京华显高科有限公司
简介 本发明的一种底层垫掩模荫罩对准喷涂的方法,通过底层所垫掩模荫罩 (4)传导并均匀分布橡胶吸附磁板(8)所形成的磁场,由稀土氧化物成分组 成的三色荧光粉浆料附着情况将随吸附磁场分布一致性情况的改善而得到明 显改善,本发明可以减轻少量动能大的雾化浆料的反向弹射作用,浆料颗粒反 弹数量的减少既利于保护已涂敷形成的荧光粉层不受破坏,又可以减轻对操作 间环境的污染。本发明具有使得最终形成的荧光粉层致密、平滑,上粉量高, 发光亮度高和发光一致性好的优点。


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