| 申请日期 | 2025-08-24 | 申请号 | TW095138772 |
| 公开（公告）号 | TW200730668A | 公开（公告）日 | 2007-08-16 |
| 公开国别 | TW | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 信越化学工业股份有限公司 | ||
| 简介 | 本发明系提供一种曝露於卤素系气体气氛、或卤素系气体电浆气氛之耐腐蚀性构件, 於基材表面被覆复数之材料所成, 其被覆层之最表面为稀土类元素之氟化物, 其下面具有未达5%气孔率之稀土类元素之氧化物层为其特徵之耐腐蚀性构件。本发明之耐腐蚀性构件可提昇对於卤素系腐蚀性气体、或其电浆之耐腐蚀性, 可抑制其用於半导体制造装置、平面显示器制造装置时因电浆蚀刻所产生之微粒污染。另外, 因可抑制经由洗净所造成构件之损伤, 故可实现构件之高寿命。因此, 可长期且高效率生产高品质制品。 | ||
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