| 申请日期 | 2025-06-25 | 申请号 | CN200510047407.0 |
| 公开（公告）号 | CN1948554A | 公开（公告）日 | 2007-04-18 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 中国科学院金属研究所 | ||
| 简介 | 本发明公开一种涂层制备技术，具体地说是两步 法低温渗铬涂层及其制备方法和应用。渗铬涂层成分由渗入的 铬和来自复合镀层金属M及少量稀土氧化物组成，其中稀土 氧化物 RexOy为Re＝Ce、Y、La等，按质量份数计，渗铬涂层中表面 层中铬含量为50～90份，其余为M和微量稀土元素氧化物， 其中M来自M－ RexOy复合镀层。制备过程如下：以金属Ni、Fe或Co、碳钢或 低合金钢为基材，在基材上采用复合电镀方法制得纳米晶的M － RexOy复合镀层，然后在600℃～800℃扩散渗铬，获得稀土氧化 物改性的渗铬涂层。本发明使传统渗铬工艺的温度由1000℃以 上降低为600℃～800℃，且工艺简单，易于推广，涂层在高温 下可热生长保护性的致密 Cr2O3氧化膜，抗氧化好。 | ||
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