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真空处理装置 发明授权

2023-01-28 1740 532K 0

专利信息

申请日期 2025-06-26 申请号 CN01816762.4
公开(公告)号 CN1310292C 公开(公告)日 2007-04-11
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 东京毅力科创株式会社
简介 使装置的维修更加容易,能够延长维修周期,提高产出率。处理室(2)和预真空室(3)由在壁上形成的搬送口(20)连接。在搬送口(20)的内壁,设置有由多个部件构成的、自由装卸的闸门衬套(100)。在进行搬送口内壁的维修时,能够只把闸门衬套(100)取出而容易进行洗净、更换。在闸门衬套(100)的表面和闸阀(4)的覆盖搬送口(20)的部分表面上施有由耐等离子体腐蚀性高的稀土类氧化物喷镀被覆膜形成的绝缘被覆膜(200、300)。因此,这些表面难以被等离子体损伤,可以降低金属的污染和粉尘的产生。


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