| 申请日期 | 2026-03-11 | 申请号 | CN200610154019.7 |
| 公开（公告）号 | CN1937109A | 公开（公告）日 | 2007-03-28 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 株式会社日立制作所 | ||
| 简介 | 以稀土类磁铁的磁力特性提高和涡流损的降低 化为课题。为了解决所述课题，而在稀土类磁铁用磁粉表面形 成高阻抗涂膜，其具有低于μm～nm的膜厚，由高阻抗涂膜形 成处理液形成。此外，磁铁由磁粉形成，磁粉在表面具有膜， 该膜含有Mg、La、Ce、Pr或Nd氟化物及Ca、Sr、Ba、Sm、 Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb或Lu的氟化物。 | ||
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