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青铜器薄壁镂空长流程铸造工艺 发明申请

2023-02-23 2370 300K 0

专利信息

申请日期 2025-07-15 申请号 CN200610159739.2
公开(公告)号 CN1923404A 公开(公告)日 2007-03-07
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 王国利
简介 本发明公开了一种青铜器薄壁镂空长流程铸造 工艺,主要在壳模制造和青铜合金配方上进行了改进,在壳模 内层涂料里加入稀土元素镥,在青铜合金里加入了稀土元素 钇。该工艺提高了壳模内壁的光滑度和保温性能,降低了青铜 合金熔液的粘稠度,在浇注过程中容易充型,从而提高青铜合 金熔液的充腔速度,能够铸造出花纹细腻、没有冷隔和气孔的 薄壁镂空长流程青铜器工艺品。


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