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Target 发明申请

2023-03-31 1910 233K 0

专利信息

申请日期 2025-06-24 申请号 JP2005513604
公开(公告)号 JPWO2005024091A1 公开(公告)日 2006-11-02
公开国别 JP 申请人省市代码 全国
申请人 JAPAN ENERGY BUNSEKI CENTER : KK
简介 A sputtering target that is a perovskite oxide represented by the chemical formula of Ra1-xAxBO3-alpha (wherein Ra represents a rare earth element consisting of Y, Sc and lanthanoid; A represents Ca, Mg, Ba or Sr; B represents a transition metal element such as Mn, Fe, Ni, Co or Cr; and 0


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