| 申请日期 | 2025-07-09 | 申请号 | CN200610016709.6 |
| 公开（公告）号 | CN1844484A | 公开（公告）日 | 2006-10-11 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 中国科学院长春应用化学研究所 | ||
| 简介 | 本发明涉及高强度铸造稀土镁合金微弧氧化处 理方法，具体涉及SJDM－1高强度铸造稀土镁合金微弧氧化 处理方法。具体步骤如下：(1)配制电解液；(2)SJDM－1高强 度铸造稀土镁合金前处理；(3)微弧氧化；(4)SJDM－1高强度 铸造稀土镁合金后处理。本发明的工艺流程简洁，生产效率高， 成本低廉且无尖端放电现象，陶瓷层均匀致密，经分析表明： 陶瓷膜厚度可达10－50um，耐蚀性优良；若反应时间延长至 30－60分钟，则陶瓷膜厚度增加到150μm，能显著提高陶瓷 层表面硬度，即可达500Hv以上。在要求质轻耐蚀的领域中具 有广泛的应用价值。 | ||
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