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真空紫外线激发紫外线磷光体及使用这种磷光体的发光装置 发明授权

2023-04-10 1470 1931K 0

专利信息

申请日期 2026-04-23 申请号 TW093127955
公开(公告)号 TWI258791B 公开(公告)日 2006-07-21
公开国别 TW 申请人省市代码 全国
申请人 日本电气股份有限公司
简介 本发明所提供之真空紫外线激发紫外线磷光体的组成为经钆活化稀土族硼酸铝而表为一般化学式(Y1- xGdx)Al3-yScy(BO3)4(其中0<x≦1,0<y≦3)。这种真空紫外线激发型磷光体可在以波长等於或小於200奈米之真空紫外线(VUV)照射时,於落在从312奈米到315奈米的波长范围内以更高的效率产生更强的发射强度且能获致比习知磷光体更高的面积强度比。


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