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In2O3-SnO2纳米涂膜材料及其制备方法 发明申请

2023-03-23 2480 343K 0

专利信息

申请日期 2025-07-02 申请号 CN200510031117.7
公开(公告)号 CN1801400A 公开(公告)日 2006-07-12
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 中南大学
简介 一种 In2O3-SnO2纳米涂膜材料及其 制备方法。其成分按照重量百分比含量为:氧化铟70~90%, 氧化锡0.5~20%,氧化锌0.5~15%,稀土元素化合物0.001~ 1%。其制备方法包括按比例将氯化铟或金属铟,氯化锡,氯 化锌,稀土元素化合物溶解配制成溶液;加热保持温度为50 -80℃,pH值在7.0~10.0之间水解,过滤,干燥,煅烧,剪 切即得铟锡氧化物纳米涂膜材料。本发明与现有技术相比,可 以提高原材料的利用率,降低成本,简化制备工艺,从分子设 计水平控制材料的性能与粒度,具有透光率高,导电性能好, 适用于大面积的镀膜。


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