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含铽多晶Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金 发明授权

2023-10-25 1960 245K 0

专利信息

申请日期 2025-06-28 申请号 CN200310109804.7
公开(公告)号 CN1253592C 公开(公告)日 2006-04-26
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 包头稀土研究院
简介 本发明涉及一种含铽多晶Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金,其特征是合金成份为Ni-Mn-Ga-Tb,其中:Ni的成分范围为45-55at%,Mn为18-32at%,Ga为16-32at%,Tb为0.01-5at%。其优点是通过添加稀土元素Tb,使材料的抗弯强度提高2-6倍,同时使材料的晶粒得到细化。在特定应力状态下材料的磁感生应变可达6000-12000ppm。材料的可加工性能大大提高,实用性增强。


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